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我院硕士研究生杨楠在第19届国际硅化学研讨会上获最佳墙报奖
发布时间:2021年07月12日 16:55    来源:william威廉亚洲官方赵晓晗    点击:[]



202175-7日,在法国图鲁斯召开的线上19届国际硅化学研讨会上(19th International Symposium on Silicon ChemistryISOS-2021),我院刘鸿志教授指导的2019级硕士杨楠获得了最佳墙报奖(BEST POSTER AWARD),刘鸿志教授也在本次大会上做了主旨演讲(Keynote Speech)。

国际硅化学研讨会是硅化学领域最具权威性的学术会议,采取每三年洲际轮替的方式举办,为硅化学研究者提供了重要的学术交流平台。第一届国际硅化学会议于1964年在捷克斯洛伐克共和国布拉格召开,至今,该学术会议已经成功举办了19届其中威廉希尔中文网站平台在20178办了第18该系列会议主要涵盖基础硅科学以及硅基材料和技术的开发。本次会议吸引了来自中国、法国、德国、美国、日本、俄罗斯、波兰、韩国、英国、泰国、印度等20多个国家和地区的400名代表参会代表共同研讨了硅化学及硅基材料的最新研究进展。

20国际硅化学研讨会ISOS-2024)将于20245月在日本广岛举行。

 

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