2021年7月5-7日，在法国图鲁斯召开的线上第19届国际硅化学研讨会上（19^th International Symposium on Silicon Chemistry，ISOS-2021），我院刘鸿志教授指导的2019级硕士生杨楠获得了最佳墙报奖（BEST POSTER AWARD），刘鸿志教授也在本次大会上做了主旨演讲（Keynote Speech）。

国际硅化学研讨会是硅化学领域最具权威性的学术会议，采取每三年洲际轮替的方式举办，为硅化学研究者提供了重要的学术交流平台。第一届国际硅化学会议于1964年在捷克斯洛伐克共和国布拉格召开，至今，该学术会议已经成功举办了19届，其中威廉希尔中文网站平台在2017年8月承办了第18届。该系列会议主要涵盖基础硅科学以及硅基材料和技术的开发。本次会议吸引了来自中国、法国、德国、美国、日本、俄罗斯、波兰、韩国、英国、泰国、印度等20多个国家和地区的近400名代表，参会代表共同研讨了硅化学及硅基材料的最新研究进展。

第20届国际硅化学研讨会（ISOS-2024）将于2024年5月在日本广岛举行。